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  •   样品夹具设计用于Buehler的磨抛机,以便于研磨抛光过程的优化和自动化。根据样品的形状和大小,有多种不同尺寸和形状的夹具可供选择。夹具尺寸及形状多样用于单点力和中心力应用的标准夹具,能够夹持圆形镶嵌试样、长方形试样和玻璃载玻片。标乐磨抛机样品夹具参考规格:Single Force Specimen HoldersEcoMet 30 Power HeadFor use with 60-9005 Drive Adapter零件号类型样品直径大安装样品数配件60-10060圆形1″4 个试样63-1022 R

  •   某些特殊的应用需要特定的耗材及解决方案。特殊夹具搭配各类研磨盘和研磨粉可用于电路板的磨抛。•PC-Met 精密印刷线路板附件应用于大批量印刷线路板制备,配合AutoMet 250/300动力头使用。多可同时制备36个样品。可高重复性地制备通孔尺寸低至0.008″ 的样品。•PWB-Met 通孔样品制备附件应用于大批量印刷线路板制备,配合AutoMet 250/300动力头使用。多可同时制备18个样品。可高重复性地制备通孔尺寸低至0.004″ 的样品。•FibrMet 研磨盘FibrMet 研磨盘适用于玻璃

  •   终抛光悬浮液旨在去除表面变形的后一层,并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形,但是对于某些标本分析技术,必须将其消除。Buehler提供了多种氧化铝和二氧化硅产品,其中包括胶体二氧化硅抛光悬浮液,可以满足许多不同的应用需求。特点:◆良好的表面处理——终抛光液可以去除肉眼不可见的终表面变形层。当使用高倍物镜、偏振光、微分干涉对比来评价样品以及使用 EBSD 技术时,去除这种变形是必不可少的。◆特定应用解决方案——氧化铝终抛液和粉末以及硅胶终抛液为现有的各种材料提供了多样的解决方案。参考规格:氧化物抛光液规

  •   MetaDi钻石悬浮液和浆料是的单晶和多晶金刚石抛光产品,可提供可重复的性能并提供良好的样品质量。严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品,以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可寻求每个样品的抛光结果均具有可重现性,并具有的表面光洁度。基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。由于对水的性或钻石的嵌入,某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水的材料一起使用时,油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。标乐金刚石悬浮液及研磨膏

  •   抛光布配合研磨料使用,可去除表面变形层,暴露材料结构进行金相分析。由于抛光是金相制备过程中其重要的一步,所以选择的抛光布是非常必要的。标乐(Buehler)的金相抛光布配合MetaDi金刚石抛光液,为样品的每步制备都提供可靠的结果及完整的解决方案。选用的抛光布类型主要取决于要处理材料的类型和终分析要求。标乐(Buehler)提供各种材质、编织方式和绒毛长短的抛光布,满足每一种应用需求。标乐提供PSA吸附和磁性衬背抛光布。其中磁性衬背抛光布可以快速更换,无需撕下粘贴。耐用的磁性衬背可以减少更换抛光布的频率,

  •   金刚石磨片石磨盘提供长寿命研磨表面,可为各种材料提供出色的表面平整度。 标乐(Buehler)金刚石磨盘中的金刚石颗粒提供了一致性的去除率和更长的使用寿命,只需偶尔修整。 标乐(Buehler)的金刚石磨盘具有良好的边缘保持性,较长的使用寿命和结果的一致性,是自动化系统中定量去除材料的选择。标乐(Buehler)提供多种不同类型的金刚石磨盘产品,具体取决于所加工的材料以及所需的速度和表面质量。CGD 特点:非常高的去除率和优异的平整度,非常适合研磨高强度材料。DGD Mosaic 特点:材料去除率高,表面

  •   Buehler的CarbiMet和MicroCut碳化硅磨纸是SiC磨盘的主要产品,可有效去除材料并减少表面损伤。 我们的圆盘具有各种粒度,微米大小和直径。CarbiMet碳化硅磨盘可在磨削过程中提供快速的磨削时间,同时将表面损伤降至低。 由于要去除的损坏较少,因此可能会减少后续处理的数量,从而节省了宝贵的准备过程时间。Apex S支持可在CarbiMet步骤之间进行快速转换。 只需移除之前的SiC研磨纸,然后再涂下一张即可,而无需移除任何背衬或衬垫。MicroCut砂纸在处理易碎或材料时可提供温和的材料

  •   Planar磨石是设计用于PlanarMet 300的多用途磨盘。其能够提供高磨削率和一致的划痕图案。Buehler磨石Planar特点:▲快速去除表面材料,保持一致的光洁度•高速研磨石可快速去除表面杂质,并提供出色的平整度和表面光洁度。这常常能减少后续步骤的处理量。▲适用于多种材料•提供氧化铝或碳化硅研磨料,可以研磨多种材料。

  •   当某些较软的、有韧性的试样,需要经过最终抛光才能达到理想效果时,应选用氧化物悬浮抛光液。名称说 明粒度包装(瓶)二氧化硅悬浮研磨抛光液机械/化学抛光,液态氧化硅悬浮液,PH9.5用于高纯度金属及合金、矿物、陶瓷、聚合物的最终抛光。用法:直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。0.04μm500ml机械/化学抛光,液态氧化硅悬浮液,PH10用于所有材料快速最终抛光。用法:直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产

  •   本产品含有经过精选的多晶金刚石和特殊的研磨介质,用于各种金属、陶瓷、符合材料及玻璃、宝石等的研磨和抛光,特别适用于金相研磨和抛光。该产品不含任何氟利昂,对环境无害,属于环保产品。高效金刚石抛光剂使用方法:1. 使用前抛光织物需用清水湿透,避免磨擦热。 2. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 3. 喷撒抛光剂时,应以抛光盘中心为圆心,沿半径方向喷出3--5s即可。 4. 新织物喷撒时间相应延长,以使织物的磨削能力更完美。推荐配套使用:本公司供应的金相抛光润滑冷却液,样品的抛光效果佳。高效金刚石抛光剂使用

  •   金刚石悬浮研磨抛光液概述: 每一颗金刚石都经精挑细选,严格的分级粒度,X进的制备工艺使之适用于不同的磨抛载体,满足不同样品的制备需求。不仅适用于金相和岩相研磨、抛光,还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。本系列金刚石悬浮研磨抛光液,具备高的磨削率和去除率。- 快速去除率- 经久耐磨性- 优良润滑性名称说 明粒度包装(瓶)金刚石悬浮研磨抛光液水基,标准浓度、单晶金刚石(HFMW)金相和岩相研磨、抛光。各种黑色和有色金属研磨抛光。陶瓷、复合材

  •   当某些较软的、有韧性的试样,需要经过终抛光才能达到理想效果时,应选用氧化物悬浮抛光液。名称说 明粒度包装(瓶)氧化铝悬浮研磨抛光液悬浮抛光液采用高纯度氧化铝微粉调制而成,磨料分散稳定、颗粒大小均匀、无聚积,PH值中性,用于各种精密产品及金相切片分析的抛光。 用法:直接使用7μm、5μm、3μm、 1μm500ml0.5μm、0.3μm、0.1μm 0.05μm500ml铝溶胶采用高纯度氧化铝微粉调制而成,磨料硬度高、磨削力强、PH值8.5 , 用于贵金属、铁基金属、碳化物、低熔点合金、印刷线路板、电子元器

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