洛氏硬度块校准套装含3块硬度块（低、中、高），一个压头和一个包装盒。每个组件可以单购买且有自己的编号。校准套装由 Wilson 硬度块校准实验室打包运出。所有校准套件均符合 ASTM E18，此外，所有校准套件中提供的球压头也符合 ISO 6508-3 标准。3块硬度块（低、中、高），一个压头和一个包装盒。每个组件可以单购买且有自己的编号。校准套装由 Wilson 硬度块校准实验室打包运出。所有校准套件均符合 ASTM E18，此外，所有校准套件中提供的球压头也符合 ISO 6508-3 标准。特点：•威

　　威尔逊维氏和努氏硬度块 并由的材料制成，以寻求可获得均匀和可重复的测试块。 可提供各种秤和测试块，以满足与Rockwell®，布氏，努氏和维氏测试相关的广泛范围和硬度秤。 所有的Wilson Vickers和Knoop测试块均在纽约州宾厄姆顿的Wilson硬度校准实验室中校准。 Wilson实验室已通过A2LA的ISO / IEC 17025认证，并且校准过程中使用的测试仪使用NIST可追溯设备进行严格的监控过程。检查以寻求每个努氏和维氏测试块均符合ASTM的物理要求(厚度，平坦度，平行度

　　威尔逊布氏硬度块，寻求了一致性和重复性。提供多种多样的标尺和试样块，以满足洛氏、布氏、努氏和维氏硬度测试相关的宽范围和硬度标尺要求。所有威尔逊的试样块在马萨诸塞州诺伍德市的威尔逊硬度校准实验室进行校准。威尔逊实验室通过了A2LA的ISO/IEC 17025认证，且校准过程所使用的硬度计都使用NIST可追溯装置进行严格的监测。威尔逊布氏硬度块特点：•材料统一•网格模式力求符合NADCAP•大尺寸试样块威尔逊布氏硬度块参考规格：For 5.0mm and 10mm 标尺硬度块尺寸6″ x 4.5″ (152

　　威尔逊洛氏硬度块（Wilson Rockwell）硬度试块树立了行业标准，并由的材料制成，以寻求提供均匀和可重复使用的罗克韦尔试块。 可提供各种秤和硬度测试块，以满足与Rockwell®，布氏，努氏和维氏测试相关的广泛范围和硬度秤。 所有Wilson Rockwell硬度测试块均在纽约州宾厄姆顿的Wilson硬度校准实验室中进行了校准。 Wilson实验室已通过A2LA的ISO / IEC 17025认证，并且校准过程中使用的测试仪使用NIST可追溯设备进行严格的监控过程。为了在测试仪验证

　　标乐研磨抛光机磁性盘系统特点：▲可快速更换的Apex S系统•在其的高摩擦表面上可以快速涂胶和去除表面。 该系统的底座是带有Apex S薄膜的铝盘。•CarbiMet S和MicroCut S产品专为此系统设计。▲多功能磁盘系统•磁性磨盘系统可以快速更换抛光布，并适配多种抛光布。该系统底座为铝盘，并带有磁铁。•许多金刚石研磨盘和抛光布（具体型号可至相关耗材页面查看）都带有磁性衬背，可直接固定在磁性磨盘上。磁性载板也可用于PSA背胶产品。标乐研磨抛光机磁性盘系统参考规格：类型数量8″[203mm]10″[2

　　样品夹具设计用于Buehler的磨抛机，以便于研磨抛光过程的优化和自动化。根据样品的形状和大小，有多种不同尺寸和形状的夹具可供选择。夹具尺寸及形状多样用于单点力和中心力应用的标准夹具，能够夹持圆形镶嵌试样、长方形试样和玻璃载玻片。标乐磨抛机样品夹具参考规格：Single Force Specimen HoldersEcoMet 30 Power HeadFor use with 60-9005 Drive Adapter零件号类型样品直径大安装样品数配件60-10060圆形1″4 个试样63-1022 R

　　某些特殊的应用需要特定的耗材及解决方案。特殊夹具搭配各类研磨盘和研磨粉可用于电路板的磨抛。•PC-Met 精密印刷线路板附件应用于大批量印刷线路板制备，配合AutoMet 250/300动力头使用。多可同时制备36个样品。可高重复性地制备通孔尺寸低至0.008″ 的样品。•PWB-Met 通孔样品制备附件应用于大批量印刷线路板制备，配合AutoMet 250/300动力头使用。多可同时制备18个样品。可高重复性地制备通孔尺寸低至0.004″ 的样品。•FibrMet 研磨盘FibrMet 研磨盘适用于玻璃

　　终抛光悬浮液旨在去除表面变形的后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。Buehler提供了多种氧化铝和二氧化硅产品，其中包括胶体二氧化硅抛光悬浮液，可以满足许多不同的应用需求。特点：◆良好的表面处理——终抛光液可以去除肉眼不可见的终表面变形层。当使用高倍物镜、偏振光、微分干涉对比来评价样品以及使用 EBSD 技术时，去除这种变形是必不可少的。◆特定应用解决方案——氧化铝终抛液和粉末以及硅胶终抛液为现有的各种材料提供了多样的解决方案。参考规格：氧化物抛光液规

　　MetaDi钻石悬浮液和浆料是的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供良好的样品质量。严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可寻求每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有的表面光洁度。基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。由于对水的性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。标乐金刚石悬浮液及研磨膏

　　抛光布配合研磨料使用，可去除表面变形层，暴露材料结构进行金相分析。由于抛光是金相制备过程中其重要的一步，所以选择的抛光布是非常必要的。标乐（Buehler）的金相抛光布配合MetaDi金刚石抛光液，为样品的每步制备都提供可靠的结果及完整的解决方案。选用的抛光布类型主要取决于要处理材料的类型和终分析要求。标乐（Buehler）提供各种材质、编织方式和绒毛长短的抛光布，满足每一种应用需求。标乐提供PSA吸附和磁性衬背抛光布。其中磁性衬背抛光布可以快速更换，无需撕下粘贴。耐用的磁性衬背可以减少更换抛光布的频率，

　　金刚石磨片石磨盘提供长寿命研磨表面，可为各种材料提供出色的表面平整度。 标乐（Buehler）金刚石磨盘中的金刚石颗粒提供了一致性的去除率和更长的使用寿命，只需偶尔修整。 标乐（Buehler）的金刚石磨盘具有良好的边缘保持性，较长的使用寿命和结果的一致性，是自动化系统中定量去除材料的选择。标乐（Buehler）提供多种不同类型的金刚石磨盘产品，具体取决于所加工的材料以及所需的速度和表面质量。CGD 特点：非常高的去除率和优异的平整度，非常适合研磨高强度材料。DGD Mosaic 特点：材料去除率高，表面

　　Buehler的CarbiMet和MicroCut碳化硅磨纸是SiC磨盘的主要产品，可有效去除材料并减少表面损伤。 我们的圆盘具有各种粒度，微米大小和直径。CarbiMet碳化硅磨盘可在磨削过程中提供快速的磨削时间，同时将表面损伤降至低。 由于要去除的损坏较少，因此可能会减少后续处理的数量，从而节省了宝贵的准备过程时间。Apex S支持可在CarbiMet步骤之间进行快速转换。 只需移除之前的SiC研磨纸，然后再涂下一张即可，而无需移除任何背衬或衬垫。MicroCut砂纸在处理易碎或材料时可提供温和的材料