标乐研磨抛光配件耗材

标乐研磨抛光配件耗材

1、Planar磨石
Planar磨石是设计用于PlanarMet 300的多用途磨盘。其能够提供高磨削率和一致的划痕图案。
2、碳化硅砂纸
CarbiMet & MicroCut碳化硅砂纸提供优的质量，保证高效的材料去除和Z小的表面损坏。
3、金刚石磨盘
金刚石磨盘提供长寿命研磨表面，可为各种材料提供良好的表面平整度。 标乐（Buehler）金刚石磨盘中的金刚石颗粒提供了一致性的去除率和更长的使用寿命，只需偶尔修整。 标乐（Buehler）的金刚石磨盘具有良好的边缘保持性，较长的使用寿命和结果的一致性，是自动化系统中定量去除材料的LX选择。
4、抛光布
抛光布配合研磨料使用，可去除表面变形层，暴露材料结构进行金相分析。
由于抛光是金相制备过程中JI其重要的一步，所以选择高质量的抛光布是非常必要的。标乐（Buehler）的金相抛光布配合MetaDi金刚石抛光液，为样品的每步制备都提供可靠的结果及完整的解决方案。
选用的抛光布类型主要取决于要处理材料的类型和Z终分析要求。标乐（Buehler）提供各种材质、编织方式和绒毛长短的抛光布，满足每一种应用需求。
我们提供PSA吸附和磁性衬背抛光布。其中磁性衬背抛光布可以快速更换，无需撕下粘贴。耐用的磁性衬背可以减少更换抛光布的频率，提高效率。
5、金刚石悬浮液及研磨膏
MetaDi金刚石悬浮液和研磨膏是高品质的单晶和多晶金刚石抛光产品，提高样品研磨的可重复性和高品质。 标乐的MetaDi金刚石悬浮液和研磨膏对颗粒大小和形状实施严格的质量控制。这确保了每个样品可重复的抛光结果和高质量的抛光效果。 不同颗粒尺寸的金刚石悬浮液和研磨膏用不同颜色标记区分，可以有效防止抛光表面的交叉污染。 有些材料由于水敏感性或金刚石的嵌入无法使用传统的水基抛光液，标乐的油基MetaDi单晶抛光液和MetaDi研磨膏可为您提供多种选择。
6、Z终抛光液
Z终抛光液是为了去除肉眼不可见的Z终表面变形层。当使用高倍物镜、偏振光、微分干涉对比来评价样品以及使用 EBSD 技术时，去除这种变形是必不可少的。 不同类型的Z终抛光液采用不同的抛光机制。MasterPrep 氧化铝抛光液含有溶胶氧化铝，可通过纯粹的机械抛光来高效地去除材料，达到优异的表面处理效果。而 MasterMet 2 非结晶硅胶抛光液，具有弱碱性，通过化学-机械的抛光方法与材料表面形成反应层，柔软的硅胶去除反应层，可得到高质量的表面。
7、特定的研磨和抛光耗材
某些特殊的应用需要特定的耗材及解决方案。特殊夹具搭配各类研磨盘和研磨粉可用于电路板的磨抛。
8、样品夹具
样品夹具设计用于Buehler的磨抛机，以便于研磨抛光过程的优化和自动化。根据样品的形状和大小，有多种不同尺寸和形状的夹具可供选择。
9、磁盘系统
多种不同的磁性磨盘系统均可用于标乐的磨抛机，以制备不同样品。 与众不同的是，其高摩擦表面适合在制备过程中快速加压和去除表面。磨盘系统的底座是带有 Apex S 薄膜的铝盘。 CarbiMet S 和 MicroCut S 系列产品专用于该磨盘系统。 多功能磁性磨盘系统：磁性磨盘系统可以快速更换抛光布，并适配多种抛光布。该系统底座为铝盘，并带有磁铁。许多金刚石研磨盘和抛光布（具体型号可至相关耗材页面查看）都带有磁性衬背，可直接固定在磁性磨盘上。磁性载板也可用于PSA背胶产品。
10、平台系统
可使用多种不同的模板系统,协助在Buehler研磨抛光机上使用不同的研磨及抛光面。
11、介质复制/复型剂
针对一些无法移动的样品，或者因为尺寸过大无法在实验室进行金相分析，复型剂可为用户提供感兴趣的微观结构的便携式复制品。 用于金相微观结构复制的复型剂是一种双组分硅胶，使用简单且复制能力稳定，固化时间也相对快速。金相复制带或“”醋酸盐”是一种薄膜，可以提供出色的分辨率，但也需要额外的护理。 复型剂和复型带均是通过创建一个3D表面以进行金相分析和检测。
12、Burst 抛光液配送系统
Burst 抛光液配送系统灵活、易于操作，适用于所有金刚石和Z终抛光悬浮液。通过多种操作模式，该系统可为标乐所有的研磨抛光设备定制解决方案。该系统可以以固定的间隔和预设的流量配送抛光悬浮液，从而提高生产效率和一致性。