首页产品中心
场发射扫描电镜EM8100
产品简介
场发射扫描电镜EM8100产品特点：
亚纳米级分辨率
低像差锥形物镜
大束流
自动化控制系统
超大样品仓
镜筒加速技术
场发射扫描电子显微镜EM8100应用领域：
EM8100高分辨场发射扫描电子显微镜，采用镜筒加速技术、低像差锥形物镜等全新电子光学设计，能够在低电压下实现亚纳米级的成像效果，对各类材料具有广泛的适用性，能够满足多种科研和工业领域的测试需求。
场发射扫描电镜EM8100技术参数：
分辨率——SE 0.9nm@30kV
放大倍数——1x-3000000x，光学放大1x-100x
电子枪——Schottky 肖特基场发射电子枪
加速电压——0.2kV-30kV
样品台——五轴自动大样品台，具有防碰撞报警功能
探测器——高真空二次电子探测器、红外CCD摄像头、光学导航、半导体四分割背散射探测器（选配）
外形尺寸——电子光学镜筒部分： 1000×1000×1730(mm)，电器柜控制部分： 1330×850×740(mm)
场发射扫描电子显微镜EM8100仪器特点：
1、不同探测器同时成像
显示SE，BSE 双通道图像，可任意设置不同探测器的信号混合比例
BSE探测器，反应样品表面的成分特征
2、大图拼接：可连续自动采图，避免人工操作的繁琐和误差。实现多个图像准确拼接，生成高分辨率的大图。
场发射扫描电镜EM8100选配附件：
EDS/EBSD/STEM/CL/LoadLock过渡仓/加热台/冷台/拉伸台等
亚纳米级分辨率
低像差锥形物镜
大束流
自动化控制系统
超大样品仓
镜筒加速技术
场发射扫描电子显微镜EM8100应用领域：
EM8100高分辨场发射扫描电子显微镜，采用镜筒加速技术、低像差锥形物镜等全新电子光学设计，能够在低电压下实现亚纳米级的成像效果，对各类材料具有广泛的适用性，能够满足多种科研和工业领域的测试需求。
场发射扫描电镜EM8100技术参数：
分辨率——SE 0.9nm@30kV
放大倍数——1x-3000000x，光学放大1x-100x
电子枪——Schottky 肖特基场发射电子枪
加速电压——0.2kV-30kV
样品台——五轴自动大样品台，具有防碰撞报警功能
探测器——高真空二次电子探测器、红外CCD摄像头、光学导航、半导体四分割背散射探测器（选配）
外形尺寸——电子光学镜筒部分： 1000×1000×1730(mm)，电器柜控制部分： 1330×850×740(mm)
场发射扫描电子显微镜EM8100仪器特点：
1、不同探测器同时成像
显示SE，BSE 双通道图像，可任意设置不同探测器的信号混合比例
BSE探测器，反应样品表面的成分特征
2、大图拼接：可连续自动采图，避免人工操作的繁琐和误差。实现多个图像准确拼接，生成高分辨率的大图。
场发射扫描电镜EM8100选配附件：
EDS/EBSD/STEM/CL/LoadLock过渡仓/加热台/冷台/拉伸台等
