1、Au溅射镀膜机

喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置，专用于电镜某些非导电样品的喷金处理，以提高电镜观察的成像效果！

电源： 230VAC 50Hz

重量： 10.8Kg

尺寸： H290mm * L340mm* W305mm

 

主要技术指标和特点如下：

------ 三种模式：金属溅射，样品干燥，真空脱气

------ 厚度可选范围：1nm --- 50nm

------  气源要求： 氩气 0.6bar

------  真空度可设定： 5Pa--300Pa

------ 工作时间设定： 1---- 240min

------ 可实现多达12个样品的同时喷涂，样品仓高度可调！

------ 专门设计的样品站，可直接实现Thermo Phenom电镜样品夹的喷涂

------ 双重安全护罩保护，硼硅玻璃样品仓外无高压部件

------  方便的样品固定和靶材更换

------ 占地小30cm*30cm，重量 ：10.8 Kg，长宽高：340mm*305mm*290mm

------ 电源：230V&50Hz, 不含泵功耗120W，含泵功耗500W

 

2、Pt 磁控离子溅射仪

Pt 喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置，专用于电镜某些非导电样品的喷金处理，以提高电镜观察的成像效果！

采用独特的样品倒挂设计，装取样品简易，无高压线缆外置，样品避免碎粒碎屑沉积，镀膜均匀一致，触摸屏控制，操作简单，不需要手动调节电压电流，只需设置镀膜厚度，真空度，无需操作经验，几分钟即可学会使用。

 

主要技术指标和特点如下：

------ 三种模式： 金属溅射，样品干燥，真空脱气

------ 厚度可选范围：1nm  --- 100nm

      （连续可调，金镀膜厚度：典型10nm，铂镀膜层厚：典型2nm）

------  气源要求： 氩气 0.6bar

------  真空度可设定：7Pa--150Pa

------ 工作时间设定： 1---- 600min (连续可选）

------ 平均喷膜时间：6min

------ 可实现多达6个样品的同时喷膜，样品仓高度可调！

------ 专门设计的样品站，可直接实现Thermo Phenom电镜样品夹的喷涂

------ 双重安全护罩保护，硼硅玻璃样品仓外无高压部件

------  方便的样品固定和靶材更换

------ 占地小35cm*35cm，重量 ：13.5 Kg，长宽高：340mm*340mm*290mm

------ 电源：110-240V&50Hz, 不含泵功耗120W，含泵功耗500W

------ 真空泵连接：DN 16KF

------ 工作气体连接：快插4*1mm

 

3、 C 磁控真空镀碳仪 

 

C 镀碳仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置，专用于场发射电镜的某些非导电样品的镀碳处理，以提高EDS/EDX探测器的元素能谱分析！

主要技术指标和特点如下：

------ 三种模式：镀碳，样品干燥，真空脱气

------ 工作时间设定： 1---- 600min

------ 可实现多达7个直径12.5mm或3个直径25mm的样品同时喷镀，样品仓高度可调！

------ 专门设计的样品站，可直接实现Thermo Phenom电镜样品夹的喷镀

------ 双重安全护罩保护，硼硅玻璃样品仓外无高压部件

------  方便的样品固定和靶材更换

------  重量 ：23 Kg，长宽高：340mm*340mm*290mm

------ 电源：230V&50Hz, 不含泵功耗120W，含泵功耗500W