类型

LFA L51 LT / 500 / 1000 / 1250

温度范围：

-100 - 500 °C
RT 至 500 / 1000 / 1250 °C

真空：

低至 10-3 mbar (二级旋转泵)
低至 10-5 mbar (涡轮分子泵)

加热速率：

0.01 至 100 K/min

数据采集频率：

2.5 MHz

冷却速率：

大 50 K/min（取决于型号）

气路控制：

手动或 MFC 气体流量控制器

热扩散系数：

0.01 - 2000 mm2/s

样品支架：

适用于圆形、方形、粉末、膏体、层压板、

液体样品和机械压力、薄膜

导热系数：

0.1 - 4000 W/(m∙K)

样品尺寸：

圆形试样：Ø 3、5、6、8、10、12.7 或 25.4 mm
方形试样：3×3、5×5、6×6、10×10 或 20×20 mm2
(厚度 0.01 mm 至 6 mm)

激光源：

闪光能量：15 J/pulse
可变脉冲能量：软件控制
脉冲宽度：50 至 2000 μs
按需定制：10 至 1600 µs

样品数量：

6 个样品（可按需增至 18 个）
5 个样品 （LFA 500 / 1250）

IR - 检测器：

InSb：≥ RT
MCT：-100 - 500 ℃

其它选项：

用于薄膜测量的 PLH 升级组件，
在受保护环境中分离的电子设备

气氛：

真空、惰性、还原、氧化

类型

LFA L52 LT / 1250 / 1600 / 2000 / 2400 / 2800

温度范围：

-125 / -100 - 500 °C
RT - 1250 / 1600 °C
RT - 2000 / 2400 / 2800 ℃

真空：

低至 10-3 mbar (二级旋转泵)
低至 10-5 mbar (涡轮分子泵)

加热速率：

0.01 至 50 K/min（LT / 1250 / 1600）

0.01 至 100 K/min（2000 / 2400 / 2800）

数据采集频率：

2.5 MHz

热扩散系数：

0.01 - 2000 mm2/s

气路控制：

手动或 MFC 气体流量控制器

导热系数：

0.1 - 4000 W/(m∙K)

样品支架：

适用于圆形、方形、粉末、膏状物、层压板、

液体样品、机械压力及 in-plane 支架，

可按要求定制样品支架

激光源：

Nd：YAG-Laser 可达 25 J/pulse
可变脉冲能量：软件控制
脉冲宽度：50 至 5000 µs

样品尺寸：

Ø 3、5、6、8、10、12.7 、 25.4 mm

或 3×3、5×5、6×6、10×10、20×20 mm2

(厚度 0.01 mm 至 6 mm)

IR - 检测器：

InSb（LN2 制冷）：≥ RT
MCT（Peltier 制冷）：≥ RT
MCT（LN2 制冷）：-125 - 500 °C

样品数量：

3 样品 (2000 / 2400 / 2800)
6 样品
按需可提供 18 样品 (LT / 1250 / 1600)

气氛：

真空、惰性、还原、氧化

其它选项：

用于薄膜测量的 PLH 升级组件，

电子元件分离并置于保护环境中，

可选光纤或自由空间激光方案