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离子溅射仪MC1000

离子溅射仪MC1000

产品简介

采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件

离子溅射仪MC1000规格:


项目

说明

放电

类型

磁控二管放电型(电场垂直于磁场)

电组成

反向平行盘(嵌入磁铁)

电压

0.4 kV DC(直流可变)

电流

40 mA DC

喷镀速率 *1()
[条件]
压力:7 Pa
放电电流:40 mA
标靶与样品表面之间的距离:20 mm

Pt (选配件)

15 nm/min

Pt-Pd (选配件)

20 nm/min

Au (选配件)

35 nm/min

Au-Pd (选配件)

25 nm/min

样品尺寸

大直径

φ60 mm

大高度

20 mm

机械泵

135/162 l/min (50/60Hz)

靶材*2

Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)

电源要求

单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m)

尺寸

宽度

450 mm

长度

391 mm

高度

390 mm

重量

主机:约 22 kg
机械泵:约 30 kg

*1喷镀速率仅供参考

*2主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂,铂-钯,金,金-)



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