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离子研磨仪IM4000II
产品简介
离子研磨仪IM4000II特点：
▲率的截面研磨
IM4000II配备截面研磨能力达到500 µm/h*1以上的率离子枪。因此，即使是硬质材料，也可以地制备出截面样品。
*1 在加速电压6 kV下，将Si片从遮挡板边缘突出100 µm并加工1小时的大深度
截面研磨时如果摆动的角度发生变化，加工的宽度和深度也会发生变化。下图为Si片在摆动角度为±15°下进行截面研磨后的结果。除摆动角度以外，其他条件与上述加工条件一致。通过与上面结果进行对比后，可发现加工的深度变深。
对于观察目标位于深处的样品来说，能够对样品进行更快速的截面研磨。
▲复合型研磨仪
截面研磨
即使是由不同硬度以及研磨速度材质所构成的复合材料，也可以通过IM4000Ⅱ制备出平滑的研磨面
优化加工条件，降低因离子束所致样品的损伤
可装载大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品
截面研磨的主要用途
金属以及复合材料、高分子材料等样品的截面制备
含有裂缝和空隙等特定位置的样品截面制备
多层样品的截面制备以及对样品EBSD分析的前处理
平面研磨
直径约为5mm范围内的均匀加工
应用领域广泛
大可装载直径50 mm × 高度25 mm的样品
可选择旋转和摆动（±60度，±90度的摆动）2种加工方法
平面研磨的主要用途
去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变
去除样品表层部分
消除因FIB加工所致的损伤层
离子研磨仪IM4000II规格：
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主要内容 |
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使用气体 |
氩气 |
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氩气流量控制方式 |
质量流量控制 |
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加速电压 |
0.0 ～ 6.0 kV |
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尺寸 |
616(W) × 736(D) × 312(H) mm |
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重量 |
主机53 kg＋机械泵30 kg |
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截面研磨 |
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快研磨速度（Si材料） |
500 µm/h*1以上 |
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大样品尺寸 |
20(W）×12(D）×7（H）mm |
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样品移动范围 |
X±7 mm、Y 0 ～+3 mm |
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离子束间歇加工功能 |
1秒 ～ 59分59秒 |
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摆动角度 |
±15°、±30°、±40° |
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广域截面研磨功能 |
- |
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平面研磨 |
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大加工范围 |
φ32 mm |
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大样品尺寸 |
Φ50 X 25 (H) mm |
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样品移动范围 |
X 0～＋5 mm |
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离子束间歇加工功能 |
1秒 ～ 59分59秒 |
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旋转速度 |
1 rpm、25 rpm |
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摆动角度 |
±60°、± 90° |
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倾斜角度 |
0 ～ 90° |
*1将Si片从遮挡板边缘突出100 µm并加工1小时的深度。
选配项：
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项目 |
内容 |
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低温控制功能*2 |
通过液氮间接冷却样品，温度设定范围：0°C ～ －100°C |
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硬遮挡板 |
使用时间约为标准遮挡板的2倍（不含钴） |
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加工过程观察用显微镜 |
放大倍数 15× ～ 100× 双目型、三目型（可装CCD） |
*2需与主机同时订购。冷却温度控制功能在使用时，部分功能可能使用有限。
